产品分类
- 磁控溅射镀膜仪
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- 等离子镀膜仪
- 可编程匀胶机
- 涂布机
- 等离子清洗机
- 放电等离子烧结炉
- 静电纺丝
- 金刚石切割机
- 快速退火炉
- 晶体生长炉
- 真空管式炉
- 旋转管式炉
- PECVD气相沉积系统
- 热解喷涂
- 提拉涂膜机
- 二合一镀膜仪
- 多弧离子镀膜仪
- 电子束，激光镀膜仪
- CVD气相沉积系统
- 立式管式炉
- 1200管式炉
- 高温真空炉
- 氧化锆烧结炉
- 高温箱式炉
- 箱式气氛炉
- 高温高压炉
- 石墨烯制备
- 区域提纯炉
- 微波烧结炉
- 粉末压片机
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- 真空热压机
- 培育钻石
- 二硫化钼制备
- 高性能真空泵
- 质量流量计
- 真空法兰
- 混料机设备
- UV光固机
- 注射泵
- 气体分析仪
- 电池制备
- 超硬刀具焊接炉
- 环境模拟试验设备
- 实验室产品配件
- 实验室镀膜耗材
- 其他产品
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多功能粉体包覆磁控镀膜... 该设备主要⽤于粉体材料、颗粒材料的包覆制备（磁控溅射镀膜、CVD、PECVD镀膜）及热处理等，⽤于改善粉体或颗粒的表⾯性...
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四探针薄膜厚度测试仪 四探针测试仪用于半导体、薄膜、导电涂层等材料的电学性能测试。四探针薄膜厚度测试仪核心作用是消除接触电阻和引线电阻的影响，...
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旋转粉末磁控溅射镀膜仪 旋转粉末磁控溅射镀膜仪主要用于粉体材料、颗粒材料的包覆制备,用于改善粉体或颗粒的表面性能、分散性能、稳定性能，赋予其导电...
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桌面型双靶磁控溅射镀膜... 本设备为双靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备
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桌面型铝合金腔体单靶磁... 桌面型铝合金腔体单靶磁控溅射镀膜仪是一种紧凑型镀膜设备，采用磁控溅射技术在基片表面沉积薄膜
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矩形腔室磁控溅射镀膜仪 矩形腔室磁控溅射镀膜仪是一种利用磁控溅射技术进行薄膜沉积的高精度设备
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D型腔体单靶直流磁控溅... 直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等
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离子源双靶磁控溅射镀膜... 离子源双靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的配有两个靶位的实验室专用镀膜仪，设备配有两台直流电源，两台射频电源，可用于制备单层...
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桌面型磁控溅射镀膜仪上... 磁控溅射镀膜仪是一种先进的物**相沉积设备，广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设备采用磁控溅射技术，...
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双靶磁控溅射镀膜仪 双靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛...
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粉末磁控溅射镀膜仪 粉末磁控溅射镀膜仪是一种用于在基材表面沉积薄膜的设备，利用磁控溅射技术将粉末状的靶材转化为薄膜覆盖在基材上
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桌面型磁控溅射镀膜仪下... 磁控溅射镀膜仪是一种先进的物**相沉积设备，广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设备采用磁控溅射技术，...
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桌面型磁控溅射镀膜仪上... 磁控溅射镀膜仪是一种先进的物**相沉积设备，广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设备采用磁控溅射技术，...
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高真空三靶磁控溅射镀膜... 三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛...
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分体式高真空三靶磁控溅... 三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛...
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分体式高真空双靶磁控溅... 双靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛...
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桌面型单靶直流磁控溅射... 单靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备
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桌面型双靶磁控溅射镀膜... 本设备为双靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备...
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高真空4英寸三靶磁控溅... 三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等
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下置四靶磁控溅射镀膜仪 四靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜
