光刻胶烤胶机 CY-HP200 - 郑州成越科学仪器有限公司

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简单介绍：

光刻胶烤胶机在半导体及相关领域的光刻工艺中，主要用于光刻胶的烘烤和固化，确保图案转移的**性和工艺稳定性

详情介绍：

8英寸光刻胶烤胶机主要用于半导体制造中的光刻工艺，具体应用领域和作用如下：

应用领域：

半导体制造：用于光刻胶的烘烤，确保图案转移的**性。

微电子机械系统（MEMS）：在MEMS器件制造中，用于光刻胶的固化。

光电子器件：在激光器、探测器等器件制造中，用于光刻胶处理。

平板显示：在液晶和OLED显示面板制造中，用于光刻胶烘烤。

作用：

去除溶剂：通过加热蒸发光刻胶中的溶剂，增强附着力。

提高稳定性：固化光刻胶，提升其在后续工艺中的稳定性。

优化图形转移：确保光刻胶均匀烘烤，提高图案转移精度。

增强抗蚀性：提升光刻胶在刻蚀和离子注入中的抗蚀能力。

主要特点：

均匀加热：确保晶圆表面温度均匀。

**控温：温度控制精度高，适应不同工艺需求。

高效生产：支持多片晶圆同时处理，提升效率。

总结：8英寸光刻胶烤胶机在半导体及相关领域的光刻工艺中，主要用于光刻胶的烘烤和固化，确保图案转移的**性和工艺稳定性。

8英寸光刻胶烤胶机技术参数：

产品名称：光刻胶烤胶机