桌面型有机源蒸发镀膜仪 CY-EVZ254-I-H-SS - 郑州成越科学仪器有限公司

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产品名称：桌面型有机源蒸发镀膜仪
产品型号：CY-EVZ254-I-H-SS
产品厂商：成越科仪
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简单介绍：

热蒸发镀膜仪的物理过程主要包括材料的蒸发、气态粒子的输运以及在基底上的沉积成膜。在蒸发过程中，材料需要获得足够的热能以克服分子间的结合能，从而转变为气态分子并从蒸发源表面逸出。这些气态粒子在输运过程中基本上无碰撞地直线飞行到基底表面，并在那里凝聚形核生长成固相薄膜

详情介绍：

本产品为专为高真空设计的桌面型小型蒸发镀膜仪，可提供*大100A的镀膜电流，*大蒸发温度可达1800℃，能够满足各种常见金属的蒸镀及部分非金属蒸镀。真空腔体采用不不锈钢制作，出厂经过除气处理，配合分子泵组可达到5x10-5Pa极限真空，能够满足绝大部分材料蒸发所需的真空环境。真空腔体采用前开门开启方式，便于取放样，腔体上配置有带挡板的适应观察窗，用于观察镀膜过程，挡板则可以有效防止观察窗被膜料污染.

蒸发镀膜仪产品特点：

高纯度薄膜：由于在高真空条件下进行，减少了气体分子与蒸发材料的碰撞，从而能够制备出高纯度的薄膜。
**控制：蒸发镀膜技术允许对薄膜的厚度、成分和结构进行**控制，这在许多高精度应用中至关重要。
适用多种材料：蒸发镀膜技术可以用于多种材料，包括金属、合金、氧化物、碳化物、氮化物以及有机材料等。
高沉积速率：特别是使用电子束蒸发时，由于高能量的电子束能够快速加热材料，可以实现高沉积速率。
均匀性：通过适当的工艺参数调整，可以在大面积基底上获得均匀的薄膜。
低损伤：由于加热主要集中在蒸发材料上，对基底的热影响较小，适用于热敏材料的薄膜沉积。

蒸发镀膜仪技术对数：

参数名称	参数说明
产品名称	桌面型有机源蒸发镀膜仪
产品型号	CY-EVZ254-I-H-SS
真空腔体	腔体材质	304不锈钢焊接而成，表面做抛光处理
	取放模式	前开门方式取放样品和蒸镀材料
	观察窗	直径80mm真空窗口，配有磁力挡板，防止污染
样品台	样品尺寸	直径≦100mm的平面样品均可
	旋转速度	分不旋转和旋转型（0-20RPM）
	加热温度	≦1800℃
蒸发系统	蒸发源	钨丝篮或坞舟 1个
	样品台蒸发源距离	60-100mm 可调
	镀膜方式	热蒸发镀膜
真空系统	抽气接口：KF25/40, 排气接口： KF16
	复合真空计，电阻规+电离规
	前级泵	旋片泵抽速： 1.1L/S
	分子泵	抽速： 62L/S (大阪分子泵)
膜厚测量	通常配CYKY膜厚测量仪（可选）
	也可选配进口品牌，价格额外计算
供电电压	AC220V,50Hz
整机功率	2KW
外形尺寸	750mm X 450mm X750mm
包装重量	70 KG

产品名称：桌面型有机源蒸发镀膜仪