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  • 产品名称：桌面型磁控溅射镀膜仪下置靶枪

  • 产品型号：CY-MSZ254-I-DC-SS
  • 产品厂商：成越科仪
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简单介绍：
磁控溅射镀膜仪是一种先进的物**相沉积设备，广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设备采用磁控溅射技术，通过磁场增强离子化效率，从而实现高质量、均匀的薄膜沉积
详情介绍：
磁控溅射镀膜仪是一种先进的物**相沉积设备，广泛应用于半导体、光电子、显示技术和表面工程等领域。该设备采用磁控溅射技术，通过磁场增强离子化效率，从而实现高质量、均匀的薄膜沉积。

磁控溅射镀膜仪产品特点：

 高效镀膜：采用磁控溅射技术，沉积速率高，薄膜均匀性好。
 多功能应用：支持多种靶材和基材，适用于不同材料的薄膜沉积。
智能控制：配备先进的控制系统，实现精准的工艺参数控制。
模块化设计：方便维护和升级，可根据需求定制各种功能模块。

环境友好：低能耗设计，减少对环境的影响。

磁控溅射镀膜仪技术参数：

参数名称

参数说明

产品名称

桌面型磁控溅射镀膜仪下置靶

产品型号

CY-MSZ254-I-DC-SS

真空腔

腔体材质

304不锈钢焊接而成，表面做抛光处理

取放模式

前开门方式取放样品和靶材

观察窗

直径100mm真空窗口，配有磁力挡板，防止污染

样品台

样品尺寸

直径≦100mm的平面样品均可

旋转速度

不旋转和旋转型（0-30RPM）可选

加热温度

RT-500℃;RT-800℃;RT-1000℃可选

磁控靶

靶枪类型

普通永磁靶，可调角度

靶材尺寸

直径2英寸，厚度≦3mm,

溅射功率

300W

溅射方式

直流溅射

工作真空

0.3-3Pa

电源

直流电源 300W *2

溅射气体

高纯氩气，纯度99.99%

真空测量

复合真空计，电阻规+电离规，测量范围：105-10-5Pa

真空获取

前级泵

抽速 1.1L/S

分子泵

抽速  600L/S

膜厚测量

通常配CYKY膜厚测量仪

也可选配进口品牌，价格额外计算

外形尺寸

550mm*350mm*450mm

包装尺寸

770×720*730mm

包装重量

110 KG

豫公网安备 41019702002438号